一、设备用途及工艺条件简述

1.1、设备用途：用于气氛保护下烧结、真空下反应烧结等

1.2、炉内气氛：氮气、氩气等保护性气体

1.3、真空度：可抽真空，≤10Pa （配机械泵）

1.4、作业方式：手动取放样品

1.5、使用环境：环境温度≤40℃，相对湿度≤85%，设备周围无导电尘埃和易燃易爆气体。

二、主要特点：

真空井式坩埚炉，集控制系统与炉膛为一体。其炉膛保温材料采用整体真空吸附成型，程控镶嵌进口电阻丝，超大口径的石英炉腔（石英桶）和真空水冷密封法兰系统，可以在流动气氛和真空状态下快速加热样品，能很好的替代真空箱式炉。炉子上部配有泄压阀，很好保证在通气氛使用情况下的安全。

三、主要技术参数

该设备可添加我司自主研发的真空平衡系统，实现动态的真空平衡既边通气氛边抽真空使其腔体内部压力稳定在设定负压，精度±1Pa。亦可不通气氛只抽真空实现所需要的真空度。