PECVD系统就是为了使传统的化学气象沉积（CVD）反应温度降低，在普通CVD装置的前端加入RF射频感应装置将反应气体电离，形成等离子体，

利用等离子体的活性来促进反应，所以这个系统称为增强型化学气相沉积系统（PECVD）。

主要特点：

1. 管内真空度自动平衡——管内真空度实时监测，自动平衡。PECVD工艺要求石英管内真空度通常在0.1～100Pa之间，该型号PECVD的AIO控制系统会通过真空泵的自动启停来维持用户设定的管内真空度，使成膜效果达最佳的均匀性。

2. AIO控制系统——加热控制、等离子射频控制、气体流量控制、真空系统控制集中于一个7英寸触摸屏进行统一集中调节和操控，协调控制——成仪AIO控制系统；

3. 射频功率的定时控制——预先设定好功率的大小和打开与关闭的时间，自动运行；

4. 炉膛移动速度可调——根据实验要求，用户可设定炉膛左右移动的速度可距离，在沉积结束后炉膛可自动移开沉积区，使样品快速冷却；

5.增加了气体预热温区，在气体电离前把反应气体加热到实验温度，使得沉积效果更佳稳定，缩短沉积时间。