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该产品主要适用于近空间升华法制备样品薄膜，例如CdTe和CdS薄膜。设备结构上采用双管结构，外管直径为110mm，一端封闭，内管直径为90mm。工艺气氛从外管通入，内管流出，使得气氛更充分地与样品接触。通过炉膛左右移动实现快速升降温。
结构特点：
1. 炉膛内采用上下两层加热结构，分别负责衬底和源的加热。加热元件为双丝卤钨红外灯管。
2. 炉膛加热到用户设定的时间后自动移开，实现快速降温。
3. 实验完成后可将放料托架打开，将石英外管移动到左端，露出样品可方便取放。
4. 7英寸触摸屏操作，设定曲线实时显示。
5. 本方案采用两块石墨板对样品衬底和源进行分别均热，上下层热电偶探头分别插入石墨板内进行控温，使得两部分的温度均匀性分别达到3℃以内。
| 项目： | 参数 |
| 真空： | 极限真空度≤10-3Pa(需配分子泵机组）系统抽真空能力（大气到10-2Pa）≤5min |
| 真空获取： | 采用分子泵机组真空系统达到≤10-3Pa，或2L直联旋片式机械泵达到≤10Pa |
| 真空计： | 皮拉尼高精度真空计（最低显示1×10-3Pa） |
| 加热方式： | 灯管红外加热 |
| 最高温度： | 800℃ |
| 升温速率： | 10℃/s |
| 降温速率： | 1、可控降温（软件自动控制）；2、自然冷却（移走加热炉膛） |
| 温控精度： | ≤±1℃ |
| 温控方式： | 分区加热，分区控温。如图所示，衬底加热与源加热分离，独立控温。石墨块内有测温点，可监控基板温度。平台三个部分可独立移动。基板（实验样品） |
| 尺寸： | 3inch×3inch |
| 温控系统： | 可实现精确自动控温，10段升降温程序，预存100条以上曲线 |
| 测温方式： | K型热电偶 |
| 控温点： | 2个（上下石墨匀热板） |
| 测温点： | 3个临时测温点，可通过法兰处插入到腔内不同位置，用来检测腔体温度分布。 |
| 恒温区： | 100mm（处理1片3inch×3inch基板） |
| 恒温区炉温均匀性： | ±3℃ |
| 温度自动补偿功能： | 温控仪增加环境温度自动补偿功能 |
| 工艺气氛： | O2,N2，干燥空气，3路供气（可实现气氛不同比例混合） |
| 气体控制： | O2：0~500sccm 精度：±1.0%F.S. N2：0~500sccm 精度：±1.0%F.S.干燥空气：0~1000sccm 精度：±1.0%F.S. |
| 冷却循环水： | 连接法兰（8mm宝塔接头） |
| 样品冷却： | 炉膛自动移开，强制风冷 |
| 额定功率： | 220V,15kw |
| 外形尺寸： | 长920×深500×高560 |
